光刻機(jī)
臺(tái)積電、三星激戰(zhàn)2nm光刻機(jī)
當(dāng)前，全球具備5nm及以下制程芯片制造實(shí)力的晶圓制造企業(yè)，正在展開一場投資超600億美元、以納米乃至原子厚度為目標(biāo)的先進(jìn)制程競賽。
熱點(diǎn)TOP10
- 1
- 2
- 3
- 4
- 5
- 6
- 7
- 8
- 9
- 10
當(dāng)前，全球具備5nm及以下制程芯片制造實(shí)力的晶圓制造企業(yè)，正在展開一場投資超600億美元、以納米乃至原子厚度為目標(biāo)的先進(jìn)制程競賽。